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技術(shù)文章
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矩形傳輸閥的產(chǎn)品介紹日揚(yáng)科技真空矩形閥由日揚(yáng)自主設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造，作為一款真空系統(tǒng)密封零部件，它擁有zhuoyue的操作性能、高耐用性、低振動(dòng)和高潔凈度等優(yōu)點(diǎn)。規(guī)格參數(shù)：閥門采用氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)模式，開啟/關(guān)閉的最快時(shí)間不超過1s，閥體開口尺寸可按客戶需求定制。當(dāng)閥門開啟時(shí)，壓力差值小于10mbar，閥門內(nèi)部軸密封采用波紋管，閥體材料可以選擇不銹鋼或者鋁合金材質(zhì)，表面可以做電解拋光或者硬質(zhì)陽極氧化處理。應(yīng)用...
2024-06-11
為了讓大家更好的了解SQC-310晶控，給使用者更多的方便，公司提供了SQC-310的中文說明書。
近幾十年來,磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為zui重要的沉積鍍膜方法之一。廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)研究領(lǐng)域。如在現(xiàn)代機(jī)械加工工業(yè)中,利用磁控濺射技術(shù)在工件表面鍍制功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜。在光學(xué)領(lǐng)域,利用磁控濺射技術(shù)制備增透膜、低輻射膜和透明導(dǎo)膜,隔熱膜等。在微電子領(lǐng)域和光、磁記錄領(lǐng)域磁控濺射技術(shù)也發(fā)揮著重要作用。然而磁控濺射技術(shù)也有其自身的不足,如靶材利用率低、沉積速率低和離化率低等缺點(diǎn)。其中靶材利用率是由于靶面跑道的存在,使等離子體約束于靶面的局部區(qū)域,造成靶材的區(qū)域性濺射。跑道的...
脈沖電源：impulsingpowersource用戶的負(fù)載需要斷續(xù)加電，即按照一定的時(shí)間規(guī)律，向負(fù)載加電一定的時(shí)間，然后又?jǐn)嚯娨欢ǖ臅r(shí)間，通斷一次形成一個(gè)周期。如此反復(fù)執(zhí)行，便構(gòu)成脈沖電源。例如對(duì)于無極性電解電容器的老練工藝中，需要給電容器正向充電一段時(shí)間，然后放電，然后反向給電容器充電一段時(shí)間，然后放電，如此便形成正向→放電（斷電）→反向→放電→正向……，如此反復(fù)。[編輯本段]脈沖電源技術(shù)的基本工作原理首先經(jīng)過慢儲(chǔ)能，使初級(jí)能源具有足夠的能量；然后向中間儲(chǔ)能和脈沖成形系統(tǒng)...
P3000是專業(yè)用于生產(chǎn)環(huán)境下的全時(shí)性吸槍檢漏。為冰箱，冷柜，空調(diào)器，制冷元件和類似產(chǎn)品的裝配和中間生產(chǎn)測試提供高生產(chǎn)效率與可靠性。此文章為P3000的中文說明書。
INFICON公司的UL1000檢漏儀是一款操作方便，故障率低，非常成熟的產(chǎn)品。
中空玻璃北玻中空玻璃采用進(jìn)口中空生產(chǎn)線，鋁條自動(dòng)折彎，使整塊玻璃僅有一個(gè)接口（正常尺寸玻璃）；采用自動(dòng)封閉分子篩灌裝系統(tǒng)，立式合片、立式自動(dòng)打膠，從工藝上保證了中空玻璃的生產(chǎn)。與普通中空玻璃相比，打膠均勻、膠層中無氣泡藏匿，具有可靠的密封性能。同時(shí)外觀指標(biāo)也明顯高于普通中空玻璃生產(chǎn)線生產(chǎn)的產(chǎn)品。北玻公司生產(chǎn)的中空玻璃露點(diǎn)等各項(xiàng)指標(biāo)均優(yōu)于國家標(biāo)準(zhǔn)。zui大規(guī)格（Max.Size）：2500mm×3500mmzui小規(guī)格（Min.Size）：250mm×300mmv經(jīng)典彎鋼化玻璃...
《真空濺射技術(shù)》*章濺射技術(shù)2所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象。21842年Grove（格洛夫）在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。21877年美國貝爾實(shí)驗(yàn)室及西屋電氣公司首先開始應(yīng)用濺射原理制備薄膜。21966年美國商用電子計(jì)算機(jī)公司應(yīng)用高頻濺射技術(shù)制成了絕緣膜。21970年磁控濺射技術(shù)及其裝置出現(xiàn)，它以“高速”、“低溫”兩大特點(diǎn)使薄膜工藝發(fā)生了深刻變化，不但滿足薄膜工藝越來越復(fù)雜的要求，而且促進(jìn)了新工藝的發(fā)展。2我國在1...
主要利用輝光放電（glowdischarge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板（substrate）表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電（glowdischarg...
zui普及的多層鍍膜測厚儀
簡要介紹了金剛石薄膜的發(fā)展，總結(jié)了金剛石薄膜的幾種主要制作工藝，并對(duì)各種工藝的優(yōu)，缺點(diǎn)進(jìn)行了分析．結(jié)合對(duì)金剛石應(yīng)用的討論，闡述了金剛石薄膜在工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用前景和發(fā)展趨勢．
本手冊(cè)是MDC-360晶控說明書的翻譯文稿,闡述了在使用ＭＤＣ－３６０時(shí)的參數(shù)設(shè)置，故障代碼，維修等方法，對(duì)MDC-360的使用者非常實(shí)用。
介紹一篇非常好的技術(shù)資料給大家,希望對(duì)使用石英晶控者有所幫助.
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