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真空鍍膜是什么?

更新時(shí)間:2011-11-02      點(diǎn)擊次數(shù):2962

科技名詞定義
中文名稱:真空鍍膜 英文名稱:vacuum deposition 定義:在真空條件下,對(duì)光學(xué)零件鍍膜的工藝過程。 所屬學(xué)科:機(jī)械工程(一級(jí)學(xué)科);光學(xué)儀器(二級(jí)學(xué)科);光學(xué)儀器一般名詞(三級(jí)學(xué)科) 本內(nèi)容由全國(guó)科學(xué)技術(shù)名詞審定委員會(huì)審定公布
百科名片
 真空鍍膜一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜.

真空鍍膜安全操作規(guī)程展開 簡(jiǎn)介
  真空鍍膜   在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

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