小说免费大全在线阅读,日韩和的一区二区区别是什么知乎,欧美又黄又粗又大av毛俄罗斯人,亚洲专区+日韩美女,亚洲av无码成h人动漫网站系
首頁
關(guān)于我們
關(guān)于我們
企業(yè)簡介
企業(yè)文化
榮譽(yù)資質(zhì)
產(chǎn)品中心
新聞資訊
技術(shù)文章
視頻中心
在線留言
聯(lián)系我們
13926558058
Technical Articles
技術(shù)文章
新聞資訊
技術(shù)文章
視頻中心
當(dāng)前位置:
首頁
>
技術(shù)文章
>
石英晶體膜厚控制儀知識(shí)小結(jié)
石英晶體膜厚控制儀知識(shí)小結(jié)
更新時(shí)間:2013-07-29 點(diǎn)擊次數(shù):2682
石英晶體膜厚控制儀
的特點(diǎn):
1、標(biāo)準(zhǔn)RS-232和USB(有以太網(wǎng)選件)。
2、貯存容量高至100個(gè)工藝過程,1,000個(gè)膜層,50個(gè)膜系。
3、用單傳感器或多傳感器監(jiān)測(cè)源材料,提供的源分布監(jiān)測(cè)。
4、高亮度,VGA活性點(diǎn)陣彩色LCD顯示器–可顯示英文或中文。
5、易設(shè)置和操作,有“快速設(shè)置”菜單,6個(gè)上下文-敏感的按鈕,和方便的參數(shù)設(shè)定旋鈕。
6、Window程序用于開發(fā),測(cè)試,和下載工藝過程,和將儀器數(shù)據(jù)記錄至您的PC上,用于過程分析與質(zhì)量控制。
7、的過程控制,尤其用于低淀積率,在10讀值/秒時(shí)的分辨率為±0.03Hz,在0至50°C溫度范圍內(nèi)的頻率穩(wěn)定性為±2ppm。
石英晶體膜厚控制儀
具有電子學(xué),具有的過程控制,尤其用于低淀積率。石英晶體膜厚控制儀適用于控制多源、多坩堝、多材料或多過程系統(tǒng)的膜層沉積速率和膜厚。石英晶體膜厚控制儀可滿足即使zui復(fù)雜、zui高要求與特殊應(yīng)用的需要。它擅長于過程控制、邏輯功能、程序和膜層儲(chǔ)存容量、過程數(shù)據(jù)管理,尤其是沉積速率與膜厚的控制。
石英晶體膜厚控制儀
具有寬廣的功能,它可啟動(dòng)抽空過程、控制閥門、啟用基片加熱器等。這些增強(qiáng)的功能使系統(tǒng)無需配備輔助儀器,從而降低系統(tǒng)的復(fù)雜性和成本。石英晶體膜厚控制儀的邏輯與控制功能包含100個(gè)可編程的邏輯狀態(tài);I/O和TTL繼電器電路板提供多至24個(gè)繼電器輸出,28個(gè)TTL輸入,14個(gè)TTL輸出,20個(gè)計(jì)數(shù)和20個(gè)計(jì)時(shí)。邏輯狀態(tài)可與外輸入或輸出聯(lián)用。每個(gè)狀態(tài)可包含多至5個(gè)功能,并用布爾邏輯鏈接。石英晶體膜厚控制儀可為源控制或圖形記錄儀輸出提供6個(gè)可賦值的模擬輸出、沉積速率、膜厚或沉積速率的偏離。
石英晶體膜厚控制儀
控制兩種材料的同時(shí)鍍膜。它包含一個(gè)編程的比值參數(shù),在變化的沉積速率中控制合金的比率,還有一個(gè)交叉靈敏度(或串適)參數(shù),自動(dòng)補(bǔ)償來自一個(gè)源的材料鍍覆至用于控制另一個(gè)源的傳感件上。Auto Z功能還對(duì)石英晶體膜厚控制儀的共沉積有貢獻(xiàn),當(dāng)不同材料混合在一個(gè)晶體上時(shí)保持膜厚的精度。
上一篇:
晶振片的使用方法
下一篇:
壓電閥的發(fā)展歷程
產(chǎn)品中心
IRC081離子基準(zhǔn)真空計(jì)控制器
IRG080離子基準(zhǔn)真空計(jì) - 無源
VGC094真空計(jì)控制器
新聞中心
新聞資訊
技術(shù)文章
關(guān)于我們
公司簡介
視頻中心
榮譽(yù)資質(zhì)
聯(lián)系方式
在線留言
聯(lián)系我們
0755-26028990
歡迎您的咨詢
我們將竭盡全力為您用心服務(wù)
在線客服
添加好友
添加好友
版權(quán)所有 © 2024 深圳市科銳詩汀科技有限公司
備案號(hào):粵ICP備13061707號(hào)
技術(shù)支持:
儀表網(wǎng)
管理登陸
sitemap.xml
13926558058
TEL:0755-26028990