入選國(guó)際榜單，英?？蛋雽?dǎo)體行業(yè)“硬核實(shí)力"再獲認(rèn)可！

近日，國(guó)際數(shù)據(jù)平臺(tái)Quartr發(fā)布“120+全球半導(dǎo)體行業(yè)核心企業(yè)榜單"，英福康實(shí)力登榜，作為“半導(dǎo)體制造設(shè)備和服務(wù)企業(yè)"的一員，與NVIDIA英偉達(dá)、Qualcomm高通等全球企業(yè)們共享這份榮耀！

能夠躋身這一象征著行業(yè)風(fēng)向標(biāo)的榜單，不僅再度證明了英?？翟诎雽?dǎo)體領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力和品牌影響力，也為我們?nèi)蘸笤谛袠I(yè)內(nèi)與用戶更深度、更廣泛的合作和新的業(yè)務(wù)增長(zhǎng)創(chuàng)造了機(jī)遇。

半導(dǎo)體行業(yè)精確的真空控制方案：在半導(dǎo)體制造中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可應(yīng)用于各種工藝步驟，確保精準(zhǔn)控制零件及設(shè)備生產(chǎn)所必需的真空條件。

并且，我們的產(chǎn)品技術(shù)在全球范圍的眾多客戶處都得到應(yīng)用與印證，是能夠幫助企業(yè)提高生產(chǎn)力、效率、正常運(yùn)行時(shí)間和產(chǎn)量的優(yōu)質(zhì)方案。

晶體拉制：在晶體拉制過程中，英?？档碾娙菡婵沼?jì)系列可以控制拉制腔內(nèi)的工藝壓力，從而生長(zhǎng)出wanmei無(wú)瑕的硅晶體。這種精確的壓力控制對(duì)于實(shí)現(xiàn)最佳晶體生長(zhǎng)至關(guān)重要，并有助于提高半導(dǎo)體材料的質(zhì)量和純度。

氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入：在氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入等工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可確保穩(wěn)定的真空環(huán)境。電容真空計(jì)系列可監(jiān)控工藝壓力，而皮拉尼真空計(jì)和冷陰極真空計(jì)則可提供全系統(tǒng)壓力控制。這種細(xì)致的調(diào)節(jié)對(duì)于獲得理想的材料特性和摻雜精度至關(guān)重要，從而直接影響到半導(dǎo)體器件的性能。

光刻技術(shù)：在光刻工藝中，英?？嫡婵湛刂平鉀Q方案（包括電容真空計(jì)和皮拉尼真空計(jì)）以及熱離子真空計(jì)和冷陰極真空計(jì)可實(shí)現(xiàn)工藝系統(tǒng)內(nèi)精確的壓力控制。真空元件可確保無(wú)泄漏連接，有助于提高光刻工藝的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。

蝕刻：在蝕刻工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品，特別是電容式真空計(jì)，可調(diào)節(jié)工藝壓力，實(shí)現(xiàn)精確的材料去除。電容計(jì)、皮拉尼計(jì)、熱離子計(jì)和冷陰極的組合則可實(shí)現(xiàn)全系統(tǒng)的壓力控制，以確保蝕刻的一致性和高工藝可重復(fù)性。此外，采用了光學(xué)氣體分析裝置的 Augent® OPG550 能夠監(jiān)測(cè)蝕刻過程中使用的氣體成分，進(jìn)一步確保工藝穩(wěn)定性和精確的材料去除。

CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP：在 CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP 等工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品在調(diào)節(jié)工藝壓力、確保材料精確沉積和開發(fā)方面發(fā)揮著重要作用。電容真空計(jì)系列可監(jiān)控過程壓力，而熱離子計(jì)、冷陰極和真空配件則有助于進(jìn)行穩(wěn)定的系統(tǒng)壓力控制，提高過程均勻性和設(shè)備性能。我們的光學(xué)氣體分析儀 Augent® OPG550 能夠監(jiān)控材料沉積過程中的氣體成分，確保最佳條件。